DNP, 2nm 세대 이상에서 사용될 EUV 리소그래피 포토마스크에서 미세 패턴 해상도 달성

다이닛폰인쇄주식회사(Dai Nippon Printing Co., Ltd.)(DNP, TOKYO: 7912)는 2nm(nm: 10⁻⁹m) 세대[1] 이상의 로직 반도체에서 사용할 포토마스크에 요구되는 미세 패턴 해상도를 성공적으로 달성했다. 이 포토마스크는 반도체 제조 분야의 최첨단 공정인 극자외선(EU...